仪器名称： 离子溅射仪

仪器型号：日立MC1000

制造厂商： 日本日立

购置时间： 2016年7月

放置地点：呈贡校区化学楼1133室

管理人： 刘鹏

联系方式： 13888139655

主要技术指标：

电压：0.4kV DC 可调 电流: 40mA DC；

喷镀速度15nm/min~35nm/min；

样品最大直径：60 mm；

样品最大高度：20 mm；

气压控制范围：7pa~20 pa；

靶材：Au、Au-Pt、Pt可选；

仪器功能及附件：

离子溅射仪是在真空容器内，高压的作用下，残留的气体分子被电离，形成等离子体，阳离子在电场加速下轰击金属靶，使金属原子溅射到样品的表面，形成导电膜。可以使不导电或者导电性差的样品提高SEM检测或其它应用。日立MC1000可在电镀过程中调节真空强度，并可按照电流强度或者时间对电镀效果进行调节。样品喷镀高度距离可调。